An apparatus and method for providing an input signal having a desired
pulse width and amplitude to atomic force miscoscopes (AFMs) for use in
nano-lithography are provided. An input signal providing apparatus for a
contact type AFM includes: a pulse width adjusting unit which adjusts the
width of a positive pulse of an input square wave to a predetermined pulse
width; and an amplitude adjusting unit which adjusts the amplitude of the
positive pulse of the square wave to a predetermined voltage. An input
signal providing method for the contact type AFM uses the apparatus having
this structure. An input signal providing apparatus for a non-contact type
AFM further includes a square pulse generating unit which generates a
square pulse having a predetermined phase in synchronization with an input
resonance signal, and an input signal providing method for the non-contact
type AFM further involves generating the square pulse having a
predetermined phase in synchronization with the input resonance signal. As
a result, more precise nano-lithography can be achieved using an AFM to
which the apparatus and method described above are applied.
Un aparato y un método para proporcionar una señal de entrada que tiene una anchura y una amplitud deseadas del pulso a los miscoscopes atómicos de la fuerza (AFMs) para el uso en nano-litografi'a se proporcionan. Una señal de entrada que proporciona el aparato para un tipo AFM del contacto incluye: una anchura del pulso que ajusta la unidad que ajusta la anchura de un pulso positivo de una onda del cuadrado de entrada a una anchura predeterminada del pulso; y una amplitud que ajusta la unidad que ajusta la amplitud del pulso positivo de la onda cuadrada a un voltaje predeterminado. Una señal de entrada que proporciona el método para el tipo AFM del contacto utiliza el aparato que tiene esta estructura. Una señal de entrada que proporciona el aparato para un tipo sin contacto AFM incluye más lejos un pulso cuadrado que genera la unidad que genera un pulso cuadrado que tiene una fase predeterminada en la sincronización con una señal de la resonancia de la entrada, y una señal de entrada que proporciona el método para el tipo sin contacto AFM implica más lejos el generar del pulso cuadrado que tiene una fase predeterminada en la sincronización con la señal de la resonancia de la entrada. Consecuentemente, una nano-litografi'a más exacta se puede alcanzar usando un AFM a el cual los aparatos y el método descritos arriba se apliquen.
