System for frequency adjustment of piezoelectric resonators by ion etching
in vacuum, based on arranging the resonators in rows and columns on a tray
that can be moved to simultaneously expose two rows of resonators to the
two straight-track portions of an ion gun having a race-track-shaped beam
pattern whose straight tracks are spaced at an integer multiple of the
inter-row spacing d. As the tray is moved in steps of d, two rows can be
etched simultaneously, and each row can be sequentially exposed to a
"pre-etch" and "final-etch" stage, with time between the two stages for
the resonators to cool down after the "pre-etch" stage.
Σύστημα για τη ρύθμιση συχνότητας των πιεζοηλεκτρικών αντηχείων από την ιονική χαρακτική στο κενό, βασισμένη στην τακτοποίηση των αντηχείων στις σειρές και των στηλών σε έναν δίσκο που μπορεί να κινηθεί για να εκθέσει ταυτόχρονα δύο σειρές των αντηχείων στις δύο μερίδες ευθύς-διαδρομής ενός ιονικού πυροβόλου όπλου που έχει ένα φυλή-διαδρομή-διαμορφωμένο σχέδιο ακτίνων οι του οποίου ευθείες διαδρομές χωρίζονται κατά διαστήματα σε ένα πολλαπλάσιο ακέραιων αριθμών της διά-σειράς που χωρίζει κατά διαστήματα το δ. Καθώς ο δίσκος κινείται στα βήματα του δ, δύο σειρές μπορούν να χαραχτούν ταυτόχρονα, και κάθε σειρά μπορεί να εκτεθεί διαδοχικά "προ-χαράζει" και "τελικός-χαράξτε" το στάδιο, με το χρόνο μεταξύ των δύο σταδίων για τα αντηχεία που δροσίζουν κάτω αφότου "προ-χαράξτε" το στάδιο.
