The present invention pertains to methods and apparatus for controlling the
pressure in a supercritical processing system. Active methods for
controlling the pressure include anticipating a pressure deviation due to
a solute addition to a system, and changing the pressure within the system
to compensate for the deviation. In this way, a desired pressure is
achieved when the solute is added, without phase separation of the solute
from the solvent. Pressure is adjusted by changing the volume of the
supercritical processing system. Passive methods include adjusting the
pressure of a supercritical system by changing the volume in response to a
pressure deviation from a desired pressure. Apparatus for controlling the
pressure in a supercritical processing system are described.
La présente invention concerne les méthodes et l'appareil pour commander la pression dans un système de traitement supercritique. Les méthodes actives pour commander la pression incluent prévoir une déviation de pression due à une addition de corps dissous d'un système, et changer la pression dans le système de compenser la déviation. De cette façon, une pression désirée est réalisée quand le corps dissous est ajouté, sans séparation de phase du corps dissous du dissolvant. De la pression est ajustée en changeant le volume du système de traitement supercritique. Les méthodes passives incluent ajuster la pression d'un système supercritique en changeant le volume en réponse à une déviation de pression d'une pression désirée. Des appareils pour commander la pression dans un système de traitement supercritique sont décrits.