Monitoring semiconductor wafer tilt, such as in conjunction with
semiconductor fabrication equipment having a cooling and or a heating
plate, is disclosed. A system for such monitoring includes one or more
light sources and one or more light detectors. Each light source generates
light that is reflected by the semiconductor wafer. Each light detector
senses a detected light value of the light reflected by the semiconductor
wafer. If the detected light value deviates from a normal value
corresponding to no wafer tilt, then this indicates that the semiconductor
wafer has tilted.
Monitorar a inclinação do wafer de semicondutor, como conjuntamente com o equipamento da fabricação do semicondutor que tem refrigerar e ou uma placa de heating, é divulgada. Um sistema para tal monitoração inclui um ou mais fonte clara e um ou mais detetores claros. Cada fonte clara gera a luz que é refletida pelo wafer de semicondutor. Cada detetor claro deteta um valor claro detectado da luz refletida pelo wafer de semicondutor. Se o valor claro detectado deviates de um valor normal que corresponde a nenhuma inclinação do wafer, então este indica que o wafer de semicondutor inclinou.
