A system (10) produces patterned deposition on a substrate (14) from
supercritical fluids. A delivery system (12) cooperates with a partial
enclosure environment (30, 100, 200) retaining a movable substrate (14)
for receiving precipitated functional material (44) along a fluid delivery
path (13) from the delivery system (12). A shadow mask (22) is arranged in
close proximity to the movable substrate (14) for forming the patterned
deposition on the movable substrate (14).
Ein System (10) produziert patterned Absetzung auf einem Substrat (14) aus überkritischen Flüssigkeiten. Ein Anlieferung System (12) arbeitet mit einem teilweisen Einschließung Klima (30, 100, 200) ein bewegliches Substrat (14) für das Empfangen ausgefällten Funktionsmaterials (44) entlang einem flüssigen Anlieferung Weg (13) vom Anlieferung System (zusammen 12) behalten. Eine Schattenschablone (22) wird in der nahen Nähe zum beweglichen Substrat (14) für die Formung der patterned Absetzung auf dem beweglichen Substrat (14) geordnet.
