Method of monitoring the fabrication of thin film layers forming a DWDM filter

   
   

A narrow band ellipsometer is used to monitor and control the formation of thin layers in an multilayer, thin film interference filter. Optical interference filters used for DWDM application have a large number of thin layers deposited on a substrate. The thickness of the layers must be precisely controlled. An ellipsometer is used to monitor the deposition process and control the layer formation in situ, on a real time basis.

Un ellipsometer a banda stretta è usato per verificare e controllare la formazione degli strati sottili in un filtro di interferenza della pellicola a più strati e sottile. I filtri ottici di interferenza utilizzati per l'applicazione di DWDM hanno tantissimi strati sottili depositati su un substrato. Lo spessore degli strati deve essere precisamente controllato. Un ellipsometer è usato per verificare il processo di deposito e per controllare la formazione di strato in situ, su una base in tempo reale.

 
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