Systems and methods are described for environmental exchange control for a
polymer on a wafer surface. An apparatus for controlling an exchange
between an environment and a polymer on a surface of a wafer located in
the environment includes: a chamber adapted to hold the wafer, define the
environment, and maintain the polymer in an adjacent relationship with the
environment; and a heater coupled to the chamber. A method for improving
performance of a spin-on material includes: forming the spin-on material
on a surface of a wafer; then locating the spin-on material in an
environment so that said environment is adjacent said spin-on material;
and then controlling an exchange between the spin-on material and said
environment. The systems and methods provide advantages because
inappropriate deprotection is mitigated by careful control of the
environmental temperature and environmental species partial pressures
(e.g. relative humidity).
Los sistemas y los métodos se describen para el control de intercambio ambiental para un polímero en una superficie de la oblea. Un aparato para controlar un intercambio entre un ambiente y un polímero en una superficie de una oblea situada en el ambiente incluye: un compartimiento se adaptó para sostener la oblea, para definir el ambiente, y para mantener el polímero en una relación adyacente con el ambiente; y un calentador juntado al compartimiento. Un método para mejorar el funcionamiento de a hacer girar-en el material incluye: formación hacer girar-en el material en una superficie de una oblea; entonces el localizar hacer girar-en el material en un ambiente de modo que el ambiente dicho sea dicho adyacente hacer girar-en el material; y entonces controlando un intercambio entre hacer girar-en el ambiente material y dicho. Los sistemas y los métodos proporcionan ventajas porque el deprotection inadecuado es atenuado por el control cuidadoso de las presiones parciales de la temperatura ambiental y de la especie ambiental (e.g. humedad relativa).
