New photoacid generator compounds ("PAGs") are provided and photoresist
compositions that comprise such compounds. In particular, non-ionic
substituted disulfone compounds PAGS are provided, including disulfone
PAGs that contain a diazo, substituted methylene or hydrazine moiety
interposed between substituted sulfone groups. Also provided are positive-
and negative-acting chemically amplified resists that contain such PAGs
and that are preferably imaged with sub-300 nm or sub-200 nm radiation
such as 248 nm, 193 nm, or 157 nm radiation.
Os compostos novos do gerador do photoacid ("PAGs") são fornecidos e as composições do photoresist que compreendem tais compostos. No detalhe, os compostos substituídos non-ionic PAGS do disulfone são fornecidos, including o disulfone PAGs que contêm um diazo, substituíram o moiety do metileno ou do hydrazine interposed entre grupos substituídos do sulfone. São fornecidos também positivo e negativo-agir amplificado quimicamente resiste que contêm tal PAGs e que são preferivelmente imaged com radiação de sub-300 nm ou de sub-200 nm tal como 248 nm, a radiação de 193 nm, ou de 157 nm.
