Shifters on a phase shifting mask (PSM) can be intelligently assigned their
corresponding phase. Specifically, the phase of a shifter can be assigned
based on simulating the contrast provided by each phase for that shifter.
The higher the contrast, the better the lithographic performance of the
shifter. Therefore, the phase providing the higher contrast can be
selected for that shifter. To facilitate this phase assignment, a
pre-shifter can be placed relative to a feature on the layout. The
pre-shifter can then be divided into a plurality of shifter tiles for
contrast analysis. Model-based data conversion allows for a comprehensive
solution including both phase assignment as well as optical proximity
correction.
Des leviers sur un masque de déphasage (PSM) peuvent être intelligemment assignés leur phase correspondante. Spécifiquement, la phase d'un levier peut être assignée basée sur simuler le contraste fourni par chaque phase pour ce levier. Plus le contraste est haut, plus l'exécution lithographique du levier est meilleure. Par conséquent, la phase fournissant le contraste plus élevé peut être choisie pour ce levier. Pour faciliter cette tâche de phase, un pré-levier peut être placé relativement à un dispositif sur la disposition. Le pré-levier peut alors être divisé en pluralité de tuiles de levier pour l'analyse de contraste. la conversion de données Modèle-basée permet pour une solution complète comprenant des les deux la tâche de phase aussi bien que la correction optique de proximité.
