A xerogel aging system includes an aging chamber (190) with inlets and
outlet and flows a gel catalyst in gas phase over a xerogel precursor film
on a semiconductor wafer. Preferred embodiments use an ammonia and water
vapor gas mixture catalyst.
Система вызревания xerogel вклюает камеру вызревания (190) с входами и выходом и подачами катализатор геля в участок газа над пленкой прекурсора xerogel на вафле полупроводника. Предпочитаемые воплощения используют катализатор газовой смеси водяного пара амиака и.
