The present invention involves the hydrothermal treatment of nanostructured
films to form high k PMOD.TM. films for use in applications that are
temperature sensitive, such as applications using a polymer based
substrate. After a PMOD.TM. precursor is deposited and converted on a
substrate, and possibly after other process steps, the amorphous,
nanoporous directly patterned film is subjected to low temperature
hydrothermal treatment to densify and possibly crystallize the resulting
high dielectric PMOD.TM. film. A post hydrothermal treatment bake is then
performed to remove adsorped water.
De onderhavige uitvinding impliceert de hydrothermale behandeling van nanostructured films om hoge kpmod. TM. films voor gebruik in toepassingen te vormen die temperatuur gevoelig zijn, zoals toepassingen die een polymeer gebaseerd substraat gebruiken. Nadat een voorloper van PMOD. TM. wordt gedeponeerd en op een substraat, en misschien na andere processtappen gedeponeerd, wordt de amorfe, nanoporous direct gevormde film onderworpen aan lage temperatuur de hydrothermale behandeling densify en misschien de resulterende hoge diëlektrische film van PMOD. TM. kristalliseert. Een post hydrothermale behandeling bakt dan wordt gepresteerd om te verwijderen adsorped water.
