An n-InP second upper cladding layer is laid on a p-InP lower cladding
layer while an active layer having upper and lower boundary surfaces that
are uniformly flat in an optical waveguide direction is interposed
therebetween. A diffraction layer having a phase-shifted structure in the
optical waveguide direction is interposed between the lower cladding layer
and the active layer or between the second upper cladding layer and the
active layer. The length L of the diffraction grating layer in the
direction of the optical waveguide is L.ltoreq.260 .mu.m; a mean coupling
factor .kappa. of a diffraction grating layer is .kappa..gtoreq.150
cm.sup.-1 ; and .kappa.L satisfies 5.6>.kappa.L>3.0.
Une couche en second lieu supérieure du revêtement n-INP est étendue sur plus bas une couche du revêtement p-INP tandis qu'une couche active ayant des surfaces supérieures et inférieures de frontière qui sont uniformément plates dans une direction optique de guide d'ondes est interposée therebetween. Une couche de diffraction ayant une structure phase-décalée dans la direction optique de guide d'ondes est interposée entre la couche inférieure de revêtement et la couche active ou entre la deuxième couche supérieure de revêtement et la couche active. La longueur L de la couche de réseau de diffraction dans la direction du guide d'ondes optique est le mu.m L.ltoreq.260 ; un kappa moyen de facteur d'accouplement. du réseau de diffraction une couche est le kappa..gtoreq.150 cm.sup.-1 ; et le kappa.L satisfait 5.6 le kappa.L 3.0.
