A substrate with a transparent condcutive film is provided, which has a
high work function and an excellent surface smoothness as well as a
reduced specific resistance to thereby ensure a reduced power consumption
and enhanced display quality. An ITO film 2 is formed on a glass substrate
1 by an ion plating method by using an ITO sintered compact with an
SnO.sub.2 content of 4 to 6 wt %. The ITO film 2 obtained as above has a
surface having a work function of 4.9 to 5.5 eV, a surface roughness of 1
to 10 nm, and a specific resistance of 1.6.times.10.sup.-4
.OMEGA..multidot.cm or less. An organic EL device using the substrate is
provided, in which an organic multilayer film (hole transport layer 5,
light-emitting layer 7, and electron transport layer 6) is laminated on
the surface of the ITO film 2, and further a metal thin film layer 4 is
laminated on the surface of the organic multilayer film.
Un substrat avec un film condcutive transparent est fourni, qui a une fonction élevée de travail et une excellente douceur extérieure comme une résistance spécifique réduite pour assurer de ce fait une puissance d'énergie réduite et une qualité augmentée d'affichage. Un film 2 d'ITO est formé sur un substrat de verre 1 par une méthode d'électrodéposition d'ion en employant un contrat aggloméré par ITO avec une teneur SnO.sub.2 de 4 à 6 poids %. le film 2 d'ITO obtenu comme ci-dessus a une surface avoir une fonction de travail de l'eV 4.9 à 5.5, d'une rugosité extérieure de 1 à 10 nm, et d'une résistance spécifique de l'Ocméga..multidot.cm 1.6.times.10.sup.-4 ou de moins. Un dispositif organique de EL employant le substrat est fourni, en lequel un film multicouche organique (la couche transport de trou 5, la couche luminescente 7, et la couche transport d'électron 6) est stratifiée sur la surface du film 2 d'ITO, et plus loin une couche 4 de la couche mince en métal est stratifiée sur la surface du film multicouche organique.
