A method of thermally poling a silica based waveguide (12) comprises
exposing a region of the waveguide (12) to an electric field (for example,
via capillary electrodes (22, 24) inserted into holes in the waveguide);
directing a laser beam (18) into the region exposed to the electric field
to effect localized heating of the region via direct absorption; and
scanning the laser beam (18) over the region at a rate selected to avoid
heating of the region above the glass transition temperature. Reversing
the electric field while scanning the laser beam (18) allows the formation
of periodic poled gratings. The waveguide (12) can comprise an optical
fiber.
Un método termal de poling una guía de onda basada silicona (12) abarca exponer una región de la guía de onda (12) a un campo eléctrico (por ejemplo, vía los electrodos capilares (22, 24) insertados en los agujeros en la guía de onda); dirigir un rayo laser (18) en la región expuesta al campo eléctrico al efecto localizó la calefacción de la región vía la absorción directa; y exploración el excedente del rayo laser (18) la región en una tarifa seleccionada para evitar la calefacción de la región sobre la temperatura de transición de cristal. Invertir el campo eléctrico mientras que la exploración del rayo laser (18) permite la formación de periódico poled rejillas. La guía de onda (12) puede abarcar una fibra óptica.
