Photoresist compositions

   
   

The present invention relates to a composition and a process for preparing a composition that comprises: a) a novolak resin partially esterified with from about 3 to about 7 weight percent of a naphthoquinonediazidosulfonyl group; b) one or more dilution resins; and c) at least one solvent.

Η παρούσα εφεύρεση αφορά μια σύνθεση και μια διαδικασία για μια σύνθεση που περιλαμβάνει: α) μια ρητίνη novolak που εστεροποιείται μερικώς με από περίπου 3 σε περίπου τα τοις εκατό 7 βαρών μιας ομάδας naphthoquinonediazidosulfonyl β) μια ή περισσότερες ρητίνες διαλύσεων και γ) τουλάχιστον ένας διαλύτης.

 
Web www.patentalert.com

< Bicyclic macrolide derivatives

< Display device having an improved envelope for containing pixels therein

> Power converter, and photovoltaic element module and power generator using the same

> Decorative valved tracheostomy device

~ 00131