One embodiment of the invention provides a system that performs optical
proximity correction in a manner that accounts for properties of a mask
writer that generates a mask used in printing an integrated circuit.
During operation, the system receives an input layout for the integrated
circuit. The system also receives a set of mask writer properties that
specify how the mask writer prints features. Next, the system performs an
optical proximity correction process on the input layout to produce an
output layout that includes a set of optical proximity corrections. This
optical proximity correction process accounts for the set of mask writer
properties in generating the set of optical proximity corrections, so that
the mask writer can accurately produce the set of optical proximity
corrections.
Una encarnación de la invención proporciona un sistema que realice la corrección óptica de la proximidad en una manera que considere características de un escritor de la máscara que genere una máscara usada en la impresión de un circuito integrado. Durante la operación, el sistema recibe una disposición de la entrada para el circuito integrado. El sistema también recibe un sistema de las características del escritor de la máscara que especifican cómo el escritor de la máscara imprime características. Después, el sistema realiza un proceso óptico de la corrección de la proximidad en la disposición de la entrada para producir una disposición de la salida que incluya un sistema de correcciones ópticas de la proximidad. Este proceso óptico de la corrección de la proximidad considera el sistema de características del escritor de la máscara en la generación del sistema de correcciones ópticas de la proximidad, de modo que el escritor de la máscara pueda producir exactamente el sistema de correcciones ópticas de la proximidad.
