In an OFS scanning optical system in which a light beam incident to a
deflection surface is set to a light beam wider than the deflection
surface, angles formed between the center axes of emitted distributions of
light beams from light emitting points of respective lasers as light
sources and the optical axis of the corresponding optical system within a
main scanning section and total angular widths of laser beam radiation
angles within the main scanning section are regulated. Thus, symmetry and
uniformity of an illumination distribution of an imaging spot on a surface
to be scanned are improved.
Em um OFS que faz a varredura do sistema ótico em que um incident do feixe luminoso a uma superfície da deflexão é ajustado a um feixe luminoso mais largo do que a superfície da deflexão, os ângulos deram forma entre os machados center de distribuições emissoras de feixes luminosos da luz que emite-se pontos de lasers respectivos como fontes claras e a linha central ótica do sistema ótico correspondente dentro de uma seção principal da exploração e de larguras angulares do total de ângulos da radiação do feixe de laser dentro da seção principal da exploração é regulada. Assim, a simetria e a uniformidade de uma distribuição da iluminação de um ponto da imagem latente em uma superfície a ser feita a varredura são melhoradas.
