An MR system isolation impedance mismatch apparatus (12) includes an
impedance mismatch layer (24). The impedance mismatch layer (24) performs
as a mechanical notch filter and isolates an MR system component (14) from
a surrounding structure (18). A method of tuning the impedance mismatch
apparatus (12) includes determining a default notch filter frequency
range. The impedance mismatch apparatus (12) is formed and performs as a
notch filter having the default notch filter frequency range. The
impedance mismatch apparatus (12) is installed and tested between the MR
system component (14) and the surrounding structure (18). Vibrations are
detected in the MR system component (14) and in the surrounding structure
(18). The impedance mismatch apparatus is adjusted in response to the
detected vibrations.
Um SR. instrumento da mau combinação do impedance da isolação do sistema (12) inclui uma camada da mau combinação do impedance (24). A camada da mau combinação do impedance (24) executa como um filtro mecânico do entalhe e isola um SR. componente do sistema (14) de uma estrutura circunvizinha (18). Um método de ajustar o instrumento da mau combinação do impedance (12) inclui determinar uma escala de freqüência do filtro do entalhe do defeito. O instrumento da mau combinação do impedance (12) é dado forma e executa como um filtro do entalhe que tem a escala de freqüência do filtro do entalhe do defeito. O instrumento da mau combinação do impedance (12) é instalado e testado entre o SR. componente do sistema (14) e a estrutura circunvizinha (18). As vibrações são detectadas no SR. componente do sistema (14) e na estrutura circunvizinha (18). O instrumento da mau combinação do impedance é ajustado em resposta às vibrações detectadas.
