A method and apparatus for thermal processing a photosensitive element
includes heating a composition layer on a flexible substrate to a melt
temperature of an unirradiated area of the composition layer and
maintaining the flexible substrate at a temperature below the melt
temperature while pressing a heated absorbent layer against the heated
composition layer, and repeating these steps for multiple cycles. A
further embodiment of the method includes a step of cooling the flexible
substrate and layer laminate on each cycle to maintain the flexible
substrate at the desired temperature below that of the heated composition
layer.
Une méthode et un appareil pour l'courant ascendant traitant un élément photosensible inclut chauffer une couche de composition sur un substrat flexible à une température de fonte d'un secteur non irradié de la couche de composition et maintenir le substrat flexible à une température au-dessous de la température de fonte tout en serrant une couche absorbante de chauffage contre la couche de chauffage de composition, et répétant ces étapes pour les cycles multiples. Une autre incorporation de la méthode inclut une étape de refroidir le stratifié flexible de substrat et de couche sur chaque cycle pour maintenir le substrat flexible à la température désirée au-dessous de celui de la couche de chauffage de composition.
