A radiation-sensitive resin composition comprising an acid-labile
group-containing resin and a photoacid generator is disclosed. The resin
has a structure of the formula (1),
##STR1##
wherein R.sup.1 represents a hydrogen atom, a monovalent acid-labile group,
an alkyl group having 1-6 carbon atoms which does not have an acid-labile
group, or an alkylcarbonyl group having 2-7 carbon atoms which does not
have an acid-labile group, X.sup.1 represents a linear or branched
fluorinated alkyl group having 1-4 carbon atoms, and R.sup.2 represents a
hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1-10 carbon atoms,
or a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-10 carbon atoms.
The resin composition exhibits high transmittance of radiation, high
sensitivity, resolution, and pattern shape, and is useful as a chemically
amplified resist in producing semiconductors at a high yield.
Μια radiation-sensitive σύνθεση ρητίνης που περιλαμβάνει μια όξινος-ασταθή ομάδα-περιέχοντας ρητίνη και μια γεννήτρια photoacid αποκαλύπτεται. Η ρητίνη έχει μια δομή του τύπου (1), ## STR1 ## όπου R.sup.1 αντιπροσωπεύει ένα άτομο υδρογόνου, μια μονοσθενή όξινος-ασταθή ομάδα, μια αλκυλική ομάδα που έχουν 1-6 άτομα άνθρακα που δεν έχουν μια όξινος-ασταθή ομάδα, ή μια ομάδα alkylcarbonyl που έχει 2-7 άτομα άνθρακα που δεν έχει μια όξινος-ασταθή ομάδα, X.sup.1 αντιπροσωπεύει μια γραμμική ή διακλαδισμένη φθοριωμένη αλκυλική ομάδα που έχει 1-4 άτομα άνθρακα, και R.sup.2 αντιπροσωπεύει ένα άτομο υδρογόνου, μια γραμμική ή διακλαδισμένη αλκυλική ομάδα που έχουν 1-10 άτομα άνθρακα, ή μια γραμμική ή διακλαδισμένη φθοριωμένη αλκυλική ομάδα που έχει 1-10 άτομα άνθρακα. Η σύνθεση ρητίνης εκθέτει την υψηλή μετάδοση της ακτινοβολίας, την υψηλή ευαισθησία, την ανάλυση, και τη μορφή σχεδίων, και είναι χρήσιμη όπως χημικά ενισχυμένη αντιστέκεται στην παραγωγή των ημιαγωγών σε μια υψηλή παραγωγή.
