There is provided a method for aligning a semiconductor wafer and a mask. A
semiconductor wafer is provided having an alignment mark formed thereon. A
mask is provided having a pattern formed thereon. The mask is illuminated
so as to create a bright spot thereon by a 0_.pi. phase conflict. The
alignment mark is aligned with the bright spot, so as to align the
semiconductor wafer with the mask. Preferably, the method includes the
step of creating the alignment mark on the semiconductor wafer in a form
of a frame. Moreover, preferably, the creating step includes the step of
creating the frame to minimize an impact of film stack variations.
On donne une méthode pour aligner une gaufrette de semi-conducteur et un masque. Une gaufrette de semi-conducteur est fournie en faisant former un repère d'alignement là-dessus. Un masque est fourni en faisant former un modèle là-dessus. Le masque est illuminé afin de créer une tache lumineuse là-dessus par un conflit de la phase 0_.pi.. Le repère d'alignement est aligné avec la tache lumineuse, afin d'aligner la gaufrette de semi-conducteur avec le masque. De préférence, la méthode inclut l'étape de créer le repère d'alignement sur la gaufrette de semi-conducteur sous une forme d'une armature. D'ailleurs, de préférence, l'étape créante inclut l'étape de créer l'armature pour réduire au minimum un impact des variations de pile de film.
