A method of producing a pattern-formed structure, comprising: preparing a
substrate for a pattern-formed structure having a
characteristic-modifiable layer whose characteristic at a surface thereof
can be modified by the action of photocatalyst; preparing a
photocatalyst-containing-layer side substrate having a
photocatalyst-containing layer formed on a base material, the
photocatalyst-containing layer containing photocatalyst; arranging the
substrate for a pattern-formed structure and the
photocatalyst-containing-layer side substrate such that the
characteristic-modifiable layer faces the photocatalyst-containing layer
with a clearance of no larger than 200 .mu.m therebetween; and irradiating
energy to the characteristic-modifiable layer from a predetermined
direction, and modifying characteristic of a surface of the
characteristic-modifiable layer, thereby forming a pattern at the
characteristic-modifiable layer.
Метод производить картин-sformirovannuh структуру, состоя из: подготовляющ субстрат для картин-sformirovanno1 структуры имея характерн-characteristic-modifiable слой характеристика на поверхности thereof может быть доработана действием photocatalyst; подготовляющ субстрат стороны пюоточаталыст-содержать-slo4 имея пюоточаталыст-soderja слой сформированный на базовом материале, пюоточаталыст-soderja слой содержа photocatalyst; аранжирующ субстрат для картин-sformirovanno1 структуры и субстрат стороны пюоточаталыст-содержать-slo4 такие что характерн-characteristic-modifiable слой смотрит на пюоточаталыст-soderja слой с зазором of no больш mu.m чем 200 therebetween; и облучая энергия к характерн-characteristic-modifiable слою от предопределенного направления, и дорабатывать характерного поверхности характерн-characteristic-modifiable слоя, таким образом формируя картину на характерн-characteristic-modifiable слое.
