Apparatus and methods for secondary electron emission microscope with dual beam

   
   

Disclosed is an apparatus for inspecting a sample. The apparatus includes a first electron beam generator arranged to direct a first electron beam having a first range of energy levels toward a first area of the sample and a second electron beam generator arranged to direct a second electron beam having a second range of energy levels toward a second area of the sample. The second area of the sample at least partly overlaps with the first area, and the second range of energy levels are different from the first range such that charge build up caused by the first electron beam is controlled. The apparatus further includes a detector arranged to detect secondary electrons originating from the sample as a result of the first and second electron beam interacting with the sample

Αποκαλύπτεται μια συσκευή για ένα δείγμα. Η συσκευή περιλαμβάνει μια πρώτη γεννήτρια δεσμών ηλεκτρονίων που κανονίζεται για να κατευθύνει μια πρώτη δέσμη ηλεκτρονίων που έχει μια πρώτη σειρά των ενεργειακών επιπέδων προς μια πρώτη περιοχή του δείγματος και μιας δεύτερης γεννήτριας δεσμών ηλεκτρονίων που κανονίζονται για να κατευθύνει μια δεύτερη δέσμη ηλεκτρονίων που έχει μια δεύτερη σειρά των ενεργειακών επιπέδων προς μια δεύτερη περιοχή του δείγματος. Η δεύτερη περιοχή του δείγματος τουλάχιστον εν μέρει επικαλύπτει με την πρώτη περιοχή, και η δεύτερη σειρά των ενεργειακών επιπέδων είναι διαφορετική από την πρώτη σειρά έτσι ώστε η συγκέντρωση δαπανών που προκαλείται από την πρώτη δέσμη ηλεκτρονίων ελέγχεται. Η συσκευή περιλαμβάνει περαιτέρω έναν ανιχνευτή που κανονίζεται για να ανιχνεύσει τα δευτεροβάθμια ηλεκτρόνια που προέρχονται από το δείγμα ως αποτέλεσμα της πρώτης και δεύτερης δέσμης ηλεκτρονίων που αλληλεπιδρά με το δείγμα

 
Web www.patentalert.com

< Photoinitiator formulations

< Heated patient diagnostic table

> Position detection method and position detector, exposure method and exposure apparatus, and device and device manufacturing method

> Photonic processors and optical guiding structures for lightwave applications, systems, and techniques

~ 00137