There is provided an excimer laser device capable of producing a stable
oscillation even at a high repetition rate of 4 kHz. This gas laser device
is comprised of a laser chamber having laser gas filled therein; a pair of
main discharge electrodes arranged in the laser chamber; a cross-flow fan
for circulating the laser gas within the laser chamber at least between
the main discharge electrodes; and a diameter of the cross-flow fan is 150
mm or less, its peripheral speed being 25.0 m/s or more.
É fornecido um dispositivo do laser do excimer capaz de produzir uma oscilação estável mesmo em uma taxa elevada da repetição de 4 quilohertz. Este dispositivo do laser do gás é compreendido de uma câmara do laser que tem o gás do laser enchido nisso; um par dos elétrodos principais da descarga arranjou na câmara do laser; um ventilador do cross-flow para circular o gás do laser dentro da câmara do laser ao menos entre os elétrodos principais da descarga; e um diâmetro do ventilador do cross-flow é 150 milímetros ou menos, sua velocidade periférica que é 25.0 m/s ou mais.
