A metal compound solution in the atomized state is introduced directly into
a film-forming chamber of which the pressure is maintained at about 100
Torr or lower by mean of a two-fluid nozzle to form a complex oxide
thin-film. For use in the two-fluid nozzle, gases including an oxidative
gas are used. To dissolve the metal compound, a solvent having a boiling
point under ordinary pressure of about 100.degree. C. or higher is used.
Разрешение смеси металла в распыленном положении введено сразу в film-forming камеру давление поддержано на около 100 торр.их или низко серединой сопла 2-jidkosti сформировать сложную окись тонкопленочную. Для пользы в сопле 2-jidkosti, использованы газы включая оксидативный газ. Растворить смесь металла, растворитель имея кипя пункт под обычным давлением около 100.degree. C или более высоко использовано.
