From the region near the target pattern, patterns whose barycenter
positions are not changed even if deformation is generated due to
proximity effect or coarse-and-fine difference at the time of pattern
forming are selected as alignment patterns, and the barycenter positions
thereof are set as alignment reference coordinates. Rough alignment is
carried out based on the reference position provided in a region other
than the device forming region, thereby detecting the alignment pattern in
the device forming region. Positioning is carried out such that the
alignment reference coordinates of the alignment patterns and the center
coordinates of the target pattern coincide with each other, and the target
pattern is detected.
Da região perto do teste padrão do alvo, os testes padrões cujo o barycenter posiciona não estão mudados mesmo se a deformação é gerado devido ao efeito da proximidade ou a diferença grosseiro-e-fina na altura de dar forma do teste padrão está selecionada como testes padrões do alinhamento, e as posições do barycenter disso são ajustados como coordenadas da referência do alinhamento. O alinhamento áspero é realizado baseou na posição da referência fornecida em uma região à excepção do dispositivo que dá forma à região, detectando desse modo o teste padrão do alinhamento no dispositivo que dá forma à região. Posicionando é realizado tais que as coordenadas da referência do alinhamento dos testes padrões do alinhamento e as coordenadas center do teste padrão do alvo coincidem com se, e o teste padrão do alvo é detectado.
