A process of removing trace levels of metallic impurities from resist or
photoresist component solutions by treating the resist or resist
component solution with an aqueous solution of a water soluble oxidizer,
such as hydrogen peroxide, then with an acidic aqueous solution, and then
allowing organic and aqueous phases to form with said aqueous phase
containing metallic impurities extracted from said organic phase and the
organic phase containing said resist or resist component solution with
reduced amount of trace metal impurities, and separating the two phases.
Een proces om te verwijderen spoorniveaus van metaalonzuiverheden uit verzet tegenzich of photoresist de componentenoplossingen door te behandelen verzetten zich of verzetten zich componenten tegen tegen oplossing met een oplossing in water van in water oplosbare oxidizer, zoals waterstofperoxyde, dan met een zuurrijke oplossing in water, en dan het toestaan van organische en waterige fasen om zich met bovengenoemde waterige fase te vormen die metaalonzuiverheden bevat die uit bovengenoemde organische fase en het organische fase bovengenoemd bevatten worden gehaald verzet me of verzet me componenten tegen tegen oplossing met verminderde hoeveelheid de onzuiverheden van het spoormetaal, en het scheiden van de twee fasen.
