The present invention provides a method of forming a planar optical
waveguide comprising the steps of forming a silica-based waveguide at a
first temperature which is below a melting temperature of material from
which the waveguide is formed; and annealing a region of the waveguide at
a second temperature which is greater than the formation temperature and
less than a melting temperature of material from which the waveguide is
formed, so as to alter an effective refractive index of the region. In one
embodiment the step of annealing is preceded by the step of forming a thin
film heater over the region of the waveguide, the heater being capable of
heating the region to the second temperature. The first temperature is
preferably low (below 400.degree. C.) to maximize the range of annealing
temperatures.
La presente invenzione fornisce un metodo di formare una guida di onde ottica planare che contiene i punti formare una guida di onde silicone-basata ad una prima temperatura che è sotto una temperatura di fusione di materiale da cui la guida di onde è formata; e ricottura una regione della guida di onde ad una seconda temperatura che è più grande della temperatura di formazione e di meno che una temperatura di fusione di materiale da cui la guida di onde è formata, in modo da alterare un indice di rifrazione efficace della regione. In un incorporamento il punto della ricottura è preceduto dal punto di formare un riscaldatore della pellicola sottile sopra la regione della guida di onde, il riscaldatore che è capace di riscaldamento della regione alla seconda temperatura. La prima temperatura è preferibilmente bassa (sotto 400.degree. C.) per elevare la gamma di temperature di ricottura.
