Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby

   
   

A device manufacturing method is disclosed in which the aberration of the projection system of a lithographic projection apparatus is obtained in terms of the Zernike expansion. The field distribution of displacement error and focal plane distortion of the projected image are calculated on the basis of the Zernike aberration and sensitivity coefficients which quantify the relationship between Zernike aberration components and the error in the image. A calculation is then performed to determine the compensation to apply to the apparatus in order to minimize the error in the image. The compensation is then applied to the apparatus. The compensation may comprise increasing one component of aberration of the apparatus in order to decrease the effect of another aberration, such that, on balance, the image quality as a whole is improved.

On révèle une méthode de fabrication de dispositif en laquelle l'aberration du système de projection d'un appareillage lithographique de projection est obtenue en termes d'expansion de Zernike. La distribution de champ de l'erreur de déplacement et la déformation plate focale de l'image projetée sont calculées sur la base des coefficients d'aberration et de sensibilité de Zernike qui mesurent le rapport entre les composants d'aberration de Zernike et l'erreur dans l'image. Un calcul est alors exécuté pour déterminer la compensation pour appliquer à l'appareil afin de réduire au minimum l'erreur dans l'image. La compensation est alors appliquée à l'appareil. La compensation peut comporter augmenter un composant d'aberration de l'appareil afin de diminuer l'effet d'une autre aberration, telle que, tout bien pesé, la qualité d'image dans l'ensemble est améliorée.

 
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