A device manufacturing method is disclosed in which the aberration of the
projection system of a lithographic projection apparatus is obtained in
terms of the Zernike expansion. The field distribution of displacement
error and focal plane distortion of the projected image are calculated on
the basis of the Zernike aberration and sensitivity coefficients which
quantify the relationship between Zernike aberration components and the
error in the image. A calculation is then performed to determine the
compensation to apply to the apparatus in order to minimize the error in
the image. The compensation is then applied to the apparatus. The
compensation may comprise increasing one component of aberration of the
apparatus in order to decrease the effect of another aberration, such
that, on balance, the image quality as a whole is improved.
On révèle une méthode de fabrication de dispositif en laquelle l'aberration du système de projection d'un appareillage lithographique de projection est obtenue en termes d'expansion de Zernike. La distribution de champ de l'erreur de déplacement et la déformation plate focale de l'image projetée sont calculées sur la base des coefficients d'aberration et de sensibilité de Zernike qui mesurent le rapport entre les composants d'aberration de Zernike et l'erreur dans l'image. Un calcul est alors exécuté pour déterminer la compensation pour appliquer à l'appareil afin de réduire au minimum l'erreur dans l'image. La compensation est alors appliquée à l'appareil. La compensation peut comporter augmenter un composant d'aberration de l'appareil afin de diminuer l'effet d'une autre aberration, telle que, tout bien pesé, la qualité d'image dans l'ensemble est améliorée.
