In a manufacturing process of an image forming apparatus (electron beam
device) using electron emission elements, particularly, surface conduction
type electron emission elements, wirings on an electron source substrate
on which the wirings and element electrodes are formed are opposite to
electrodes for a face plate, and a given voltage is applied between the
wirings and the electrodes to thereby generate a discharge phenomenon in
advance, thus removing a protrusion or the like. In this way, when an
electric field applying process is conducted on the electron source
substrate, a factor such as a protrusion in an electron source which
induces a discharge phenomenon in driving an electron beam device
represented by an image forming apparatus is removed, thus realizing an
image forming apparatus excellent in display characteristic with no
defective pixel even in image display for a long period of time.
Em um processo de manufacturing de uma imagem que dá forma ao instrumento (dispositivo do feixe de elétron) que usa elementos da emissão do elétron, particularmente, tipo elementos da condução de superfície da emissão do elétron, as fiações em uma carcaça da fonte do elétron em que as fiações e os elétrodos do elemento são dados forma são opostas aos elétrodos para uma placa de cara, e a uma tensão dada são aplicadas entre as fiações e os elétrodos para gerar desse modo adiantado um fenômeno da descarga, assim removendo uma saliência ou o gosto. Nesta maneira, quando um campo elétrico que aplica o processo é conduzido na carcaça da fonte do elétron, um fator tal como uma saliência em uma fonte do elétron que induza um fenômeno da descarga em dirigir um dispositivo do feixe de elétron representado por uma imagem que dá forma ao instrumento é removido, assim realizando uma imagem que dá forma ao instrumento excelente na exposição característica com nenhum pixel defeituoso uniforme na exposição da imagem durante um longo período do tempo.
