With an automatic layout method, a first line having a first line width is
generated in a prescribed direction. A second line having a second line
width and extending at an oblique angle with respect to the first line is
generated, so that the second line terminates at an end portion of the
first line with an overlapped area. One or more VIA patterns are read out
of a database according to the shape of the overlapped area. The VIA
patterns are placed in the overlapped area, so that one of the VIA
patterns is located at the intersection of the center lines of the first
and second lines. The VIA pattern is a combination of parallelograms,
including squares and rectangles.
Com um método automático da disposição, uma primeira linha que tem uma primeira linha largura é gerada em um sentido prescrito. Uma segunda linha que tem uma segunda linha largura e que estende em um ângulo oblique com respeito à primeira linha é gerada, de modo que a segunda linha termine em uma parcela de extremidade da primeira linha com uma área sobreposta. Se ou mais ATRAVÉS dos testes padrões são lidos fora de uma base de dados de acordo com a forma da área sobreposta. ATRAVÉS dos testes padrões são colocados na área sobreposta, de modo que um do ATRAVÉS dos testes padrões seja ficado situado na interseção das linhas center das primeiras e segundas linhas. ATRAVÉS do teste padrão é uma combinação dos paralelogramos, including quadrados e retângulos.
