The present invention provides a broad band retardation plate that can be
fabricated by a simple process and uniformly retards light incident of the
entire visible light region. The retardation plate contains materials
including positive or negative intrinsic double refraction values. When
retardation values in wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm are
defined as Re(450), Re(550) and Re(650), respectively, the retardation
plate satisfies the relational expression of
Re(450)
La presente invenzione fornisce una vasta piastra di ritardo della fascia che può essere fabbricata tramite un processo semplice ed uniformemente ritarda l'avvenimento chiaro di intera regione chiara visibile. La piastra di ritardo contiene i materiali compreso i valori intrinsechi positivi o negativi di doppia rifrazione. Quando i valori di ritardo nelle lunghezze d'onda di 450 nm, di 550 nm e di 650 nm sono definiti come Re(450), Re(550) e Re(650), rispettivamente, la piastra di ritardo soddisfa l'espressione relazionale di Re(450)
