One embodiment of the invention provides a system that facilitates optical
proximity correction for alternating aperture phase shifting designs.
During operation, the system receives a layout, which includes a
complementary mask and a phase shifting mask. A subset of trim features on
the complementary mask that are designed to protect the dark areas left
unexposed by the phase shifting mask are adjusted first using a
rules-based optical proximity correction process. This is then
supplemented by a model-based correction to the phase shifters,
Additionally, the portions of the trim that are co-extensive with the
original layout can be corrected, e.g. at the time of the correction of
the complementary mask using either rule or model based corrections.
Uma incorporação da invenção fornece um sistema que facilite a correção ótica da proximidade para projetos de deslocamento de fase alternos da abertura. Durante a operação, o sistema recebe uma disposição, que inclua uma máscara complementar e uma máscara de deslocamento de fase. Um subconjunto das características da guarnição na máscara complementar que são projetadas proteger o unexposed esquerdo das áreas escuras pela máscara de deslocamento de fase é ajustado primeiramente usando um processo ótico régua-baseado da correção da proximidade. Isto é suplementado então por uma correção modelo-baseada aos deslocadores da fase, adicionalmente, as parcelas da guarnição que são co-extensive com a disposição original podem ser corrigidas, por exemplo na altura da correção da máscara complementar usando a régua ou correções baseadas modelo.
