The present invention relates to a method for compensating the impact of at
least one defective pixel with a known position in a spatial light
modulator (SLM) when creating a pattern of the SLM on a work piece covered
with a layer sensitive to electromagnetic radiation. A source for emitting
electromagnetic radiation is provided. Said radiation is illuminating said
SLM having a plurality of modulating elements (pixels). In a writing pass
an image of said modulator is projected on said work piece. A compensation
for defective pixels in at least one other writing pass is performed. The
invention also relates to an apparatus for performing said method.
La actual invención se relaciona con un método para compensar el impacto por lo menos de un pixel defectuoso con una posición sabida en un modulador ligero espacial (SLM) al crear un patrón del SLM respecto a un pedazo del trabajo cubierto con una capa sensible a la radiación electromágnetica. Una fuente para emitir la radiación electromágnetica se proporciona. La radiación dicha está iluminando el SLM dicho que tiene una pluralidad de elementos de modulación (pixeles). En un paso de la escritura una imagen del modulador dicho se proyecta en el pedazo dicho del trabajo. Una remuneración para los pixeles defectuosos en por lo menos un otro paso de la escritura se realiza. La invención también se relaciona con un aparato para realizar el método dicho.
