A method for ionization film formation to form a deposited film by ionizing
vaporized particles with an ionization mechanism of the hot-cathode system
and injecting the ionized particles into a substrate is provided. The
method includes the step of introducing He gas inside the ionization
mechanism.
Um método para que a formação da película do ionization dê forma a uma película depositada ionizando partículas vaporizadas com um mecanismo do ionization do sistema do quente-cátodo e injetando as partículas ionizadas em uma carcaça é fornecido. O método inclui a etapa que introduz do ele gaseia dentro do mecanismo do ionization.
