Gas temperature control for a plasma process

   
   

A method and system for controlling the temperatures of at least one gas in a plasma processing environment prior to the at least one gas entering a process chamber. This temperature control may vary at different spatial regions of a showerhead assembly (either an individual gas species or mixed gas species). According to one embodiment, an in-line heat exchanger alters (i.e., increases or decreases) the temperature of passing gas species (either high- or low-density) prior to entering a process chamber, temperature change of the gases is measured by determining a temperature of the gas both upon entrance into the in-line heat exchanger assembly and upon exit.

Метод и система для контролировать температуры по крайней мере одного газа в плазме обрабатывая окружающую среду до по крайней мере одного газа входя в отростчатую камеру. Этот контроль температуры может поменять на по-разному spatial зонах агрегата showerhead (или индивидуальный вид газа или смешанный вид газа). Согласно одному воплощению, встроенный обменник жары изменяет (т.е., увеличивает или уменьшает) температуру проходить вид газа (или высоко или low-density) перед вход отростчатой камеры, изменение температуры газов измерено путем обусловливать температуру газа и на входе в встроенный агрегат обменника жары и на выходе.

 
Web www.patentalert.com

< Polygonal heat exchange chamber including a tapered portion lined with water tube panels and method of lining a tapered portion of a polygonal heat exchange chamber with such panels

< Method and apparatus for sensing microbial growth conditions

> Cooling system

> Medium having a high heat transfer rate

~ 00143