A projection exposure apparatus having an exposure mode for exposing a mask
to transfer a pattern image of the mask onto a photosensitive substrate.
The apparatus includes a light source for emmitting an exposure beam, a
projection optical system for receiving the exposure beam and for exposing
a mask to transfer a pattern image of the mask onto a photosensitive
substrate, wherein the mask includes (i) a substrate transparent for the
exposure beam, and (ii) a member translucent for the exposure beam formed
on the transparent substrate, the transmission factor of the translucent
member being different from a transmission factor of the transparent
substrate, wherein a difference between an optical path length of the
exposure beam passing through the transparent substrate and the
translucent member and an optical path length of the exposure beam passing
through the transparent substrate and the space adjacent to the
translucent member on the transparent substrate is greater than
(m-1/8).lambda. and less than (m+1/8).lambda., where .lambda. is a
wavelength of the exposure beam and m is an integer.
Een apparaat dat van de projectieblootstelling een blootstellingswijze om een masker heeft bloot te stellen om een patroonbeeld van het masker op een fotogevoelig substraat over te brengen. Het apparaat omvat een lichtbron voor het emmitting van een blootstellingsstraal, een projectie optisch systeem om de blootstellingsstraal en te ontvangen voor het blootstellen van een masker om een patroonbeeld van het masker op een fotogevoelig substraat over te brengen, waarin het masker (i) een substraat transparant voor de blootstellingsstraal omvat, en (ii) een lid doorzichtig voor de blootstellingsstraal die op het transparante substraat, de transmissiefactor wordt gevormd van het doorzichtige lid dat verschillend van een transmissiefactor van het transparante substraat is, waarin een verschil tussen een optische weglengte van de blootstellingsstraal die door het transparante substraat en het doorzichtige lid overgaat en een optische weglengte van de blootstelling het overgaan door het transparante substraat richt en het doorzichtige lid op het transparante substraat is groter dan (m-1/8).lambda. en minder dan (m+1/8).lambda., waar lambda. een golflengte van de blootstellingsstraal en m is is een geheel.
