On the occasion of developing processing, a mixed solution produced by
stirring a developing solution and a solution with a specific gravity
smaller than the developing solution is supplied to the front surface of a
substrate and left as it is for a fixed period of time. After the mixed
solution is separated into two layers of which the lower layer is the
developing solution and the upper layer is the solution, developing
progresses all at once in the entire surface of the substrate. Hence, time
difference in start time of developing does not occur in the surface of
the substrate, thereby enabling uniform developing and an improvement in
line width uniformity of a resist pattern film in the surface of the
substrate.
Na ocasião de desenvolver que processa, uma solução misturada produzida agitando uma solução tornando-se e uma solução com uma gravidade específica menor do que a solução tornando-se estão fornecidas à superfície dianteira de uma carcaça e à esquerda enquanto se realiza por um período de tempo fixo. Depois que a solução misturada está separada em duas camadas de que a camada mais baixa é a solução se tornando e a camada superior é a solução, tornar-se progride de uma vez na superfície inteira da carcaça. Daqui, a diferença do tempo no tempo de começo de tornar-se não ocorre na superfície da carcaça, desse modo permitindo tornar-se do uniforme e uma melhoria na linha uniformidade da largura de uma película do teste padrão resistir na superfície da carcaça.
