The invention relates to a new process for preparing nitrogen trifluoride
which finds extensive application in the technology of semiconductors,
high energy lasers, and chemical vapor deposition.
Nitrogen trifluoride is prepared by the fluorination of urea or its
decomposition products with elemental fluorine in anhydrous hydrogen
fluoride at a temperature of from -20.degree. C. to 0.degree. C. and the
molar ratio of fluorine to the starting compounds of not over 3. The
concentration of the starting compounds in anhydrous hydrogen fluoride is
preferably 20-50% by weight.
The proposed process is explosion-safe and gives a product with maximum
content of nitrogen trifluoride and minimum concentration of admixtures,
with the yield of up to 90%.
Вымысел относит к новому процессу для подготовлять трифторид азота находит обширное применение в технологии полупроводников, лазеров высокой энергии, и низложения химически пара. Трифторид азота подготовлен fluorination мочевины или своих продуктов разложением с elemental фтором в безводном фториде водопода на температуре от -20.degree. C к 0.degree. C и молярный коэффициент фтора к начиная смесям не над 3. Концентрация начиная смесей в безводном фториде водопода предпочтительн 20-50% весом. Предложенный процесс взрыв-bezopasen и дает продукт с максимальным содержанием трифторида азота и концентрацией минимума примесей, с выходом up to 90%.
