A device for measuring thickness and/or rate of thickness increase of a
film comprises at least one piezoelectric element, and first and second
electrodes in contact with the piezoelectric element. A method of
measuring thickness and/or rate of thickness increase of a film comprises
applying a voltage across a piezoelectric element from a first electrode
to a second electrode, thereby causing the piezoelectric element to
vibrate, and measuring the rate of vibration of the piezoelectric element.
Heat may be applied to the piezoelectric element. The piezoelectric
element may be formed of quartz crystal, e.g., IT-cut.
Un dispositif pour mesurer l'épaisseur et/ou le taux d'augmentation d'épaisseur d'un film comporte au moins un élément piézoélectrique, et d'abord et deuxièmes électrodes en contact avec l'élément piézoélectrique. Une méthode de mesurer l'épaisseur et/ou le taux d'augmentation d'épaisseur d'un film comporte appliquer une tension à travers un élément piézoélectrique à partir d'une première électrode à une deuxième électrode, faisant de ce fait vibrer l'élément piézoélectrique, et mesurant le taux de vibration de l'élément piézoélectrique. La chaleur peut être appliquée à l'élément piézoélectrique. L'élément piézoélectrique peut être constitué du cristal de quartz, par exemple,-COUPEZ.
