In order to produce a trench structure having steep sidewalls free of
residues in an, in particular, glass-fiber-reinforced substrate, the
substrate is provided with a conformal mask having cutouts corresponding
to the trench structure to be produced. In this case, the laser beam is
guided over the cutouts of the mask in such a way that the low-energy edge
regions of the laser beam are shielded and that proportion of the laser
beam which impinges on the polymer surface, at each point, has an energy
density above a threshold at which the substrate material including a
glass fiber reinforcement that is possibly present is completely removed.
Per produrre esente una struttura della trincea che ha muri laterali ripidi dai residui in, in particolare, il substrato vetro-fibra-di rinforzo, il substrato è fornito di una mascherina conformal che ha ritagli corrispondere alla struttura della trincea da produrre. In questo caso, il fascio laser è guidato sopra i ritagli della mascherina im modo tale che le regioni a bassa energia del bordo del fascio laser sono protette e quella del fascio laser che interferisce sulla superficie del polimero, ad ogni punto, proporzione una densità di energia sopra una soglia a cui il materiale del substrato compreso un rinforzo della fibra di vetro che è possibilmente presente completamente è rimosso.
