Fine positioning of a shaped or patterned charged particle beam without use
of intrusive fiducial marks is achieved by providing a dithered shadow
pattern, preferably in the form of a grid, within the shaped or patterned
charged particle beam. Light output from fiducial marks preferably formed
of a scintillating material is reduced when the dithered shadow pattern is
incident on some or all of the fiducial marks. The timing of the incidence
of the shadow pattern on fiducial marks indicates the position of the
shaped or patterned charged particle beam such that correction of the beam
position on the target can be corrected to a small fraction of system
resolution. The dither pattern and repetition period is chosen to avoid
interference with uniformity of beam illumination of the target. Feedback
of position error thus provides phase locked position correction in real
time and is suitable for mask making since the fiducial marks are not
intrusive.
Точный располагать сформированного или сделанного по образцу порученного луча частицы без пользы интрузивных фидуциальных меток достиган путем обеспечивать dithered картину тени, предпочтительн в форме решетки, внутри сформированный или сделанный по образцу порученный луч частицы. Уменьшен сигнала от фидуциальных меток предпочтительн сформированных сверкая материала когда dithered картиной тени будет случай на некоторых или всей из фидуциальных меток. Время падения картины тени на фидуциальных метках показывает положение сформированного или сделанного по образцу порученного луча частицы такие что коррекцию положения луча на цели можно исправиться к малой части разрешения системы. Картина dither и период повторения выбраны для избежания взаимодействия с единообразием освещения луча цели. Обратная связь ошибки положения таким образом обеспечивает коррекцию замкнутого положения участка в реальном времени и целесообразна для маски делая в виду того что фидуциальные метки не интрузивны.
