A system is provided for adjusting a photo-exposure time of a manufacturing
apparatus for semiconductor devices. The system for adjusting the
photo-exposure time includes a photo-exposure unit whose photo-exposure
time is adjustable according to one or more adjustment signals, a
pre-exposure step influence prediction unit that obtains pre-exposure step
processing information and extracts parameters that may influence a
resulting pattern during photo-exposure, and provides this information as
feed forward data, an inspection unit that checks processed steps during a
certain period after photo-exposure and provides an inspection value as a
feed back data, and a central processing unit that receives the feed
forward and feedback data and, by means of a predetermined calculation
method, generates the one or more adjustment signals, which are used to
adjust the photo-exposure time.
Een systeem wordt verstrekt voor het aanpassen van een foto-blootstelling tijd van een productieapparaat halfgeleiderapparaten. Het systeem om de foto-blootstelling tijd aan te passen omvat een foto-blootstelling eenheid waarvan de foto-blootstelling tijd volgens één of meerdere aanpassingssignalen, een eenheid regelbaar is van de de invloedsvoorspelling van de pre-blootstellingsstap die de verwerkingsinformatie van de pre-blootstellingsstap verkrijgt en parameters die een resulterend patroon tijdens foto-blootstelling kunnen beïnvloeden, haalt en deze informatie als voer voorwaartse gegevens, een inspectieeenheid verstrekt die verwerkte stappen tijdens een bepaalde periode na foto-blootstelling controleert en een inspectiewaarde aangezien gegevens terugkoppel, en een centrale verwerkingseenheid verstrekt die het voer voorwaarts en terugkoppelingsgegevens en, door middel van een vooraf bepaalde berekeningsmethode ontvangt, de één of meerdere aanpassingssignalen produceert, die worden gebruikt om de foto-blootstelling tijd aan te passen.
