A fine stencil structure correction device has a charged particle beam
microscope lens-barrel which scans and corrects shapes of defect portions
of a fine stencil structure sample using an etching or deposition
function, and the fine stencil structure correction device further
comprises transmitted beam detecting means for detecting a transmitted
beam which is the charged particle beam penetrating the sample provided on
a sample stage when the sample is scanned by the charged particle beam.
Eine feine Schablonestruktur-Korrekturvorrichtung hat ein belastetes Partikellichtstrahl-Mikroskop Objektiv-Faß, das Formen der Defektteile einer feinen Schablonestrukturprobe mit einer Radierung oder Absetzungfunktion ablichtet und behebt, und die feine Schablonestruktur-Korrekturvorrichtung enthält weiter den übertragenen Lichtstrahl, der Mittel für das Ermitteln eines übertragenen Lichtstrahls ermittelt, der der belastete Partikellichtstrahl ist, der die Probe eindringt, die auf einem Beispielstadium bereitgestellt wird, wenn die Probe durch den belasteten Partikellichtstrahl abgelichtet wird.
