Method and system of determining chamber seasoning condition by optical emission

   
   

A plasma processing system that comprises a process chamber, a plasma source, a light detection device and a controller. The controller is useful for determining a seasoning state of the plasma processing system. The present invention further provides a method of determining the seasoning state of a plasma processing system comprising the steps of forming a first plasma in the process chamber utilizing the plasma source; measuring a first signal related to light emitted from the first plasma using the light detection device and storing the first signal using the controller; forming a second plasma in the process chamber utilizing the plasma source; measuring a second signal related to light emitted from the second plasma using the light detection device and storing the second signal using the controller; and correlating a change between the first signal and the second signal with a seasoning state of the plasma processing system.

Ein Verarbeitungssystem des Plasmas, das einen Prozeßraum, eine Plasmaquelle, eine helle Abfragung Vorrichtung und einen Steuerpult enthält. Der Steuerpult ist für die Bestimmung eines Seasoningzustandes des Verarbeitungssystems des Plasmas nützlich. Die anwesende Erfindung, die weiter ist, liefert eine Methode der Bestimmung des Seasoningzustandes eines Verarbeitungssystems des Plasmas, das die Schritte von der Formung eines ersten Plasmas im Prozeßraum enthält, der die Plasmaquelle verwendet; das Messen eines ersten Signals bezog auf dem Licht, das vom ersten Plasma mit der hellen Abfragung Vorrichtung und der Speicherung des ersten Signals mit dem Steuerpult ausgestrahlt wurde; Formung eines zweiten Plasmas im Prozeßraum, der die Plasmaquelle verwendet; das Messen eines zweiten Signals bezog auf dem Licht, das vom zweiten Plasma mit der hellen Abfragung Vorrichtung und der Speicherung des zweiten Signals mit dem Steuerpult ausgestrahlt wurde; und eine Änderung zwischen dem ersten Signal und dem zweiten Signal mit einem Seasoningzustand des Verarbeitungssystems des Plasmas aufeinander beziehend.

 
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