The present invention is in the field of photography and is used to measure
the sensitometric characteristics of a photographic element, such as a
photographic film strip. The present invention relates more particularly
to an exposure system that enables the production of a sensitometric
control patch and the measurement of the sensitometric characteristics of
the photographic element. The exposure system comprises a light energy
source servo connected to a management module of the exposure parameters.
The exposure system enables the production on the exposed film strip of
the unique sensitometric control patch, so that this sensitometric control
patch includes gradient of exposure areas that enables all the
sensitometric characteristics of the photographic film to be obtained.
La presente invenzione è nel campo di fotographia ed è usata misurare le caratteristiche sensitometric di un elemento fotografico, quale una striscia fotografica della pellicola. La presente invenzione si riferisce più specialmente ad un sistema di esposizione che permette la produzione di una zona sensitometric di controllo e la misura delle caratteristiche sensitometric dell'elemento fotografico. Il sistema di esposizione contiene un servo chiaro di fonte di energia collegato ad un modulo dell'amministrazione dei parametri di esposizione. Il sistema di esposizione permette la produzione sulla striscia esposta della pellicola della zona sensitometric unica di controllo, di modo che questa zona sensitometric di controllo include la pendenza delle zone di esposizione che permette a tutte le caratteristiche sensitometric della pellicola fotografica di essere ottenuta.
