Electron beam patterning with a heated electron source

   
   

An electron source has an anode and a cathode that is capable of being negatively biased relative to the anode, the cathode having an electron emitting portion and a cathode axis. An electromagnetic radiation source is adapted to generate an electromagnetic radiation beam to heat the cathode. A lens is adapted to direct the electromagnetic radiation beam onto the cathode, the lens having a lens axis that forms an acute angle with, or is substantially parallel to, the cathode axis of the electron emitting portion.

Een elektronenbron heeft een anode en een kathode die negatief met betrekking tot de anode kan worden beïnvloed, de kathode die een elektron heeft dat gedeelte en een kathodeas uitzendt. Een elektromagnetische stralingsbron wordt aangepast om een elektromagnetische stralingsstraal te produceren om de kathode te verwarmen. Een lens wordt aangepast om de elektromagnetische stralingsstraal op de kathode te leiden, de lens die een lensas heeft die een scherpe hoek met vormt, of is wezenlijk parallel met, de kathodeas van het elektron dat gedeelte uitzendt.

 
Web www.patentalert.com

< Light source device and liquid crystal display employing the same

< Double jacketed high intensity discharge lamp

> Electro-conductive liquid crystal element and organic electro-luminescence element

> Reflector-containing semiconductor component

~ 00148