What are formed on an insulating substrate are gate electrodes and data
electrodes provided in a grid pattern, a TFT provided in each grid and
connected to the gate electrode and the data electrode, an interlayer
insulating film formed on the TFT and including a contact hole penetrating
the film itself, and a sense electrode provided on the interlayer
insulating film and passing through the contact hole. On the interlayer
insulating film, an upper layer insulating film is formed so as to cover
the sense electrode. A surface of the interlayer insulating film in which
surface the sense electrode is formed is flat. On this account, it is
possible to provide an uneven pattern sensing device capable of smoothing
out a surface thereof without any increase of the manufacturing process
and limitation of a choice of materials for a protective film.
Ce qui sont formés sur un substrat isolant sont les électrodes de porte et les électrodes de données fournies dans un modèle de grille, un TFT fourni dans chaque grille et relié l'électrode de porte et l'électrode de données, un film isolant de couche intercalaire formé sur le TFT et inclure à un trou de contact pénétrant le film lui-même, et à une électrode de sens fournies sur le film isolant de couche intercalaire et passant par le trou de contact. Sur le film isolant de couche intercalaire, un film isolant de couche supérieure est formé afin de couvrir l'électrode de sens. Une surface du film isolant de couche intercalaire dans quelle surface l'électrode de sens est formé est plate. Sur ce compte, il est possible de fournir un dispositif de sensation inégal de modèle capable de lisser hors d'une surface en sans n'importe quelle augmentation du processus de fabrication et de la limitation d'un choix des matériaux pour un film protecteur.
