An exposure apparatus to be used with an excimer laser as a light source
includes an optical system disposed along a path of excimer laser light, a
chamber for accommodating the optical system therein and having an inside
space being able to be replaced by a predetermined gas, a gas circulation
mechanism having a gas circulation path for connecting a gas discharging
port for discharging a gas from the chamber and a gas supplying port for
supplying a gas into the chamber, and a switching device for selectively
using plural purifiers disposed in the gas circulation path.
Прибор выдержки, котор нужно использовать с лазером excimer как источник света вклюает оптически систему размещанную вдоль курса света лазера excimer, камеру для приспосабливать оптически систему в этом и иметь внутренний космос мочь быть замененным предопределенным газом, механизм циркуляции газа имея курс циркуляции газа для соединять газ разряжая порт для разрядки газа от камеры и порт газа поставляя для поставлять газ в камеру, и аппаратуру коммутационн для селективного использования плюральных размещанных очистителей в курсе циркуляции газа.
