A method and apparatus for high density nanostructures is provided. The
method and apparatus include Nano-compact optical disks, such as
nano-compact disks (Nano-CDS). In one embodiment a 400 Gbit/in.sup.2
topographical bit density nano-CD with nearly three orders of magnitude
higher than commercial CDS has been fabricated using nanoimprint
lithography. The reading and wearing of such Nano-CDS have been studied
using scanning proximal probe methods. Using a tapping mode, a Nano-CD was
read 1000 times without any detectable degradation of the disk or the
silicon probe tip. In accelerated wear tests with a contact mode, the
damage threshold was found to be 19 .mu.N. This indicates that in a
tapping mode, both the Nano-CD and silicon probe tip should have a
lifetime that is at least four orders of magnitude longer than that at the
damage threshold.
Un método y un aparato para los nanostructures de alta densidad se proporciona. El método y los aparatos incluyen discos ópticos Nano-compactos, tales como discos nano-compactos (Nano-CDS). En una encarnación se ha fabricado una densidad de pedacito topográfica 400 Gbit/in.sup.2 nano-CD con casi tres pedidos de la magnitud de los CDES que comerciales más arriba usando la litografía del nanoimprint. La lectura y el usar de tal Nano-CDS se han estudiado usando métodos próximos de la punta de prueba de la exploración. Usando un modo que golpeaba ligeramente, un Nano-CD fue leído 1000 veces sin ninguna degradación perceptible del disco o de la extremidad de la punta de prueba del silicio. En pruebas de desgaste aceleradas con un modo del contacto, el umbral del daños fue encontrado para ser el mu.N 19. Esto indica que en un modo que golpea ligeramente, el Nano-CD y la extremidad de la punta de prueba del silicio deben tener un curso de la vida que sea por lo menos cuatro órdenes de la magnitud más de largo que eso en el umbral del daños.
